日本原装PROTEC自动反转涂层机RC-600B

核心概要

日本PROTEC株式会社是一家在超精密测量和定位技术领域处于地位的专业制造商。其核心业务是为半导体制造、电子元器件、精密加工和光学等行业提供超高精度的对位系统、对准显微镜和测量设备。

简单来说，PROTEC是 “精密对准与测量领域的隐形"，其产品是生产芯片、显示器等产品的关键设备之一。

---

关键信息

• 公司全称： 株式会社プロテック

• 成立时间： 1977年7月

• 总部地点： 日本东京都千代田区

• 核心技术： 超精密光学、图像处理、运动控制、激光干涉测量技术。

• 市场地位： 在半导体和FPD（平板显示器）制造领域的精密对位设备市场中，占有率非常高，尤其在市场是性企业。

---

主要产品线

PROTEC的产品主要围绕“看准"和“对准"两大功能：

1. 对准显微镜

• 这是PROTEC的产品。它们不是普通的显微镜，而是集成了高分辨率光学镜头、**照明系统和精密载物台的系统。

• 特点： 极长的工作距离（可以在不接触的情况下观察样品）、超高的景深（能同时看清高低不平的表面）、优异的像差校正（图像无扭曲）。

• 应用： 用于检查晶圆上的微小电路、光掩模版、封装后的芯片等。

2. 掩模对准系统

• 这是半导体和微电子制造中的关键设备。用于将光掩模版（相当于照相底片）与硅片（晶圆）进行超精密对准，然后进行曝光（光刻）。

• PROTEC提供从手动、半自动到全自动的各类对准系统，精度可达亚微米甚至纳米级别。

3. 芯片贴装/键合对准系统

• 用于封装工艺，如倒装芯片。在将一颗芯片**地贴装到基板或另一颗芯片上时，需要精度的对准。PROTEC的系统能确保两者之间的微米级电路对齐。

4. 精密测量与检测系统

• 基于其光学和图像处理技术，提供用于测量线宽、距离、位置等的专用设备。

---

核心技术优势

1. 光学技术： 拥有自主设计制造的光学镜头，能提供无失真的高清晰图像，这是精密对准的基础。

2. 图像处理技术： 的算法能快速、稳定地识别和定位微米甚至纳米级的标记，不受光线和材料差异的干扰。

3. 系统集成能力： 将精密机械、光学、传感器和软件结合，实现高可靠性和高重复性。

4. 长期稳定性： 其设备以坚固耐用、长期保持高精度而闻名，深受制造客户的信赖。

---

主要应用行业

• 半导体制造： 光刻对准、晶圆检测、芯片封装。

• 平板显示器： FPD光刻对准、OLED制造。

• 微电子机械系统： MEMS器件的制造与对准。

• 封装： 2.5D/3D IC封装、异构集成、倒装芯片。

• 精密加工与光学元件： 精密零件的定位与测量。

产品留言

标题

联系人

联系电话

内容

验证码

点击换一张

注：1.可以使用快捷键Alt+S或Ctrl+Enter发送信息!
2.如有必要,请您留下您的详细联系方式!