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- 产品名称：日本到货ULVAC爱发科光谱椭球仪UNECS-Portable
- 产品型号：UNECS-Portable.
- 产品展商：ULVAC爱发科
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简单介绍
日本到货ULVAC爱发科光谱椭球仪UNECS-Portable
产品描述
日本到货ULVAC爱发科光谱椭球仪UNECS-Portable
日本到货ULVAC爱发科光谱椭球仪UNECS-Portable
核心产品线
ULVAC的产品体系覆盖真空系统全链条，主要分为四大类：
1. 真空泵与真空系统
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类型
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代表型号
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特点
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油旋片真空泵
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G-10DA、G-20DA、G-25SA
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低噪音、高真空度（极限压力达1.3 Pa），广泛用于实验室与工业抽气
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干式螺杆泵
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LS Series
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无油、清洁、高可靠性，适用于半导体洁净环境
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干式涡旋泵
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Scroll Type
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低振动、免维护，适合精密仪器配套
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低温泵（Cryo Pump）
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Cryo-U系列（如Cryo-U8H、Cryo-U20P）
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超高真空（UHV）环境核心设备，抽速高达数万L/s，用于半导体与科研
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2. 薄膜沉积与镀膜设备
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磁控溅射系统：
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ENTRON-EXX：多腔体集群式PVD系统，支持多12个模块灵活组合，用于Micro-OLED、先进封装的金属化工艺。
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SME、SRH、SMV系列：适用于半导体晶圆、PCB互连层、光学薄膜的高精度溅射。
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热蒸发系统：用于有机材料（如OLED发光层）的高纯度蒸镀。
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CVD/ALD系统：提供薄膜均匀性控制，满足2.5D/3D封装需求。
3. 等离子体处理设备
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灰化/去胶系统：
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Luminous NA系列：无晶圆尺寸限制，专用于先进封装中光刻胶残留，支持晶圆与面板（大600mm）处理。
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ENVIRO Optima：高 ash rate（>12 µ/min），适用于HDI、TSV等高密度互连结构。
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等离子体刻蚀与清洗：用于半导体前道工艺中的表面活化与污染物去除。
4. 高纯靶材与材料
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产品类型：高纯度Cu、Al、Mo、Ti、Ta、Nb、Zr及其合金靶材。
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应用领域：
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液晶面板（FPD）
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太阳能电池（CIGS、PERC）
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半导体互连层（Cu damascene）
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技术优势：苏州公司拥有58项，涵盖靶材加工、吊装、焊接等工艺，“专精特新”企业。
主要应用领域
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领域
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应用场景
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关键设备
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半导体制造
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先进封装（Fan-Out、TSV）、晶圆级封装、金属化层沉积
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ENTRON-EXX、uGmni-300S、Cryo-U、Luminous NA
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显示面板
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Micro-OLED蒸镀、透明电极镀膜、ITO沉积
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Cluster系统、SME、ULGLAZE系列CVD
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新能源
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锂电池电极材料镀膜、太阳能电池靶材沉积
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溅射系统、热蒸发设备
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科研与高校
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超高真空实验、薄膜物性研究、表面分析
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Cryo泵、真空计、质谱仪（Qulee）、椭偏仪
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光学器件
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多层抗反射膜、红外截止膜、防污膜
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ULDiS系列光学镀膜系统
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