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产品详情

日本进口ULVAC爱发科低温冷冻柜RM20T

日本进口ULVAC爱发科低温冷冻柜RM20T

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产品名称：日本进口ULVAC爱发科低温冷冻柜RM20T
产品型号：RM20T.
产品展商：ULVAC爱发科
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简单介绍

日本进口ULVAC爱发科低温冷冻柜RM20T

产品描述

日本进口ULVAC爱发科低温冷冻柜RM20T
日本进口ULVAC爱发科低温冷冻柜RM20T

‌核心产品线‌

ULVAC的产品体系覆盖真空系统全链条，主要分为四大类：

‌1. 真空泵与真空系统‌

表格

类型	代表型号	特点
油旋片真空泵	G-10DA、G-20DA、G-25SA	低噪音、高真空度（极限压力达1.3 Pa），广泛用于实验室与工业抽气
干式螺杆泵	LS Series	无油、清洁、高可靠性，适用于半导体洁净环境
干式涡旋泵	Scroll Type	低振动、免维护，适合精密仪器配套
低温泵（Cryo Pump）	Cryo-U系列（如Cryo-U8H、Cryo-U20P）	超高真空（UHV）环境核心设备，抽速高达数万L/s，用于半导体与科研

‌2. 薄膜沉积与镀膜设备‌

‌磁控溅射系统‌：
- ‌ENTRON-EXX‌：多腔体集群式PVD系统，支持多12个模块灵活组合，用于Micro-OLED、先进封装的金属化工艺。
- ‌SME、SRH、SMV系列‌：适用于半导体晶圆、PCB互连层、光学薄膜的高精度溅射。
‌热蒸发系统‌：用于有机材料（如OLED发光层）的高纯度蒸镀。
‌CVD/ALD系统‌：提供薄膜均匀性控制，满足2.5D/3D封装需求。

‌3. 等离子体处理设备‌

‌灰化/去胶系统‌：
- ‌Luminous NA系列‌：无晶圆尺寸限制，专用于先进封装中光刻胶残留，支持晶圆与面板（大600mm）处理。
- ‌ENVIRO Optima‌：高 ash rate（>12 µ/min），适用于HDI、TSV等高密度互连结构。
‌等离子体刻蚀与清洗‌：用于半导体前道工艺中的表面活化与污染物去除。

‌4. 高纯靶材与材料‌

‌产品类型‌：高纯度Cu、Al、Mo、Ti、Ta、Nb、Zr及其合金靶材。
‌应用领域‌：
- 液晶面板（FPD）
- 太阳能电池（CIGS、PERC）
- 半导体互连层（Cu damascene）
‌技术优势‌：苏州公司拥有58项，涵盖靶材加工、吊装、焊接等工艺，“专精特新”企业。

‌主要应用领域‌

表格

领域	应用场景	关键设备
‌半导体制造‌	先进封装（Fan-Out、TSV）、晶圆级封装、金属化层沉积	ENTRON-EXX、uGmni-300S、Cryo-U、Luminous NA
‌显示面板‌	Micro-OLED蒸镀、透明电极镀膜、ITO沉积	Cluster系统、SME、ULGLAZE系列CVD
‌新能源‌	锂电池电极材料镀膜、太阳能电池靶材沉积	溅射系统、热蒸发设备
‌科研与高校‌	超高真空实验、薄膜物性研究、表面分析	Cryo泵、真空计、质谱仪（Qulee）、椭偏仪
‌光学器件‌	多层抗反射膜、红外截止膜、防污膜	ULDiS系列光学镀膜系统

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