神崎国际贸易(苏州)有限公司
主营:特殊光源、计测工具、科学仪器、机械加工备品、环境试验设备、PC周边工具等
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PRODUCTS DETAILS
产品详情
日本原装ULVAC爱发科低温冷冻柜RMS80T
如果您对该产品感兴趣的话,可以
产品名称:
日本原装ULVAC爱发科低温冷冻柜RMS80T
产品型号:
RMS80T.
产品展商:
ULVAC爱发科
产品文档:
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简单介绍
日本原装ULVAC爱发科低温冷冻柜RMS80T
产品描述
日本原装ULVAC爱发科低温冷冻柜RMS80T
日本原装ULVAC爱发科低温冷冻柜RMS80T
核心产品线
ULVAC的产品体系覆盖真空系统全链条,主要分为四大类:
1. 真空泵与真空系统
表格
类型
代表型号
特点
油旋片真空泵
G-10DA、G-20DA、G-25SA
低噪音、高真空度(极限压力达1.3 Pa),广泛用于实验室与工业抽气
干式螺杆泵
LS Series
无油、清洁、高可靠性,适用于半导体洁净环境
干式涡旋泵
Scroll Type
低振动、免维护,适合精密仪器配套
低温泵(Cryo Pump)
Cryo-U系列(如Cryo-U8H、Cryo-U20P)
超高真空(UHV)环境核心设备,抽速高达数万L/s,用于半导体与科研
2. 薄膜沉积与镀膜设备
磁控溅射系统
:
ENTRON-EXX
:多腔体集群式PVD系统,支持多12个模块灵活组合,用于Micro-OLED、先进封装的金属化工艺。
SME、SRH、SMV系列
:适用于半导体晶圆、PCB互连层、光学薄膜的高精度溅射。
热蒸发系统
:用于有机材料(如OLED发光层)的高纯度蒸镀。
CVD/ALD系统
:提供薄膜均匀性控制,满足2.5D/3D封装需求。
3. 等离子体处理设备
灰化/去胶系统
:
Luminous NA系列
:无晶圆尺寸限制,专用于先进封装中光刻胶残留,支持晶圆与面板(大600mm)处理。
ENVIRO Optima
:高 ash rate(>12 µ/min),适用于HDI、TSV等高密度互连结构。
等离子体刻蚀与清洗
:用于半导体前道工艺中的表面活化与污染物去除。
4. 高纯靶材与材料
产品类型
:高纯度Cu、Al、Mo、Ti、Ta、Nb、Zr及其合金靶材。
应用领域
:
液晶面板(FPD)
太阳能电池(CIGS、PERC)
半导体互连层(Cu damascene)
技术优势
:苏州公司拥有58项,涵盖靶材加工、吊装、焊接等工艺,“专精特新”企业。
主要应用领域
表格
领域
应用场景
关键设备
半导体制造
先进封装(Fan-Out、TSV)、晶圆级封装、金属化层沉积
ENTRON-EXX、uGmni-300S、Cryo-U、Luminous NA
显示面板
Micro-OLED蒸镀、透明电极镀膜、ITO沉积
Cluster系统、SME、ULGLAZE系列CVD
新能源
锂电池电极材料镀膜、太阳能电池靶材沉积
溅射系统、热蒸发设备
科研与高校
超高真空实验、薄膜物性研究、表面分析
Cryo泵、真空计、质谱仪(Qulee)、椭偏仪
光学器件
多层抗反射膜、红外截止膜、防污膜
ULDiS系列光学镀膜系统
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